Автоматические установки фотолитографии серии GHS-607S
Полностью автоматизированная установка для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования предназначена для использования в серийном производстве интегральных микросхем и других компонентов. Установка обеспечивает автоматическую подачу, совмещение и экспонирование по заданному алгоритму
Достоинствами модели является удобство, высокая производительность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Размер пластин | 4”, 6” |
| Размер фотошаблона | 5”, 7” |
| Толщина пластин | 0,2-1,1мм |
| Режимы засветки | Мягкий контакт, жёсткий контакт, вакуумный контакт, экспонирование с зазором |
| Точность совмещения, верхняя сторона | ±1,5 мкм |
| Точность совмещения, нижняя сторона | ±3,5 мкм |
| Источник засветки | УФ ртутная лампа (линииI,HиG)мощность 1000 Втили светодиодный источник 365 нм |
| Размер зоны засветки | Ø160 мм |
| Разрешение | 1,5 мкм (при вакуумном контакте и позитивном фоторезисте толщиной <1 мкм) |
| Интенсивность засветки | ≥ 40 мВт/см2(365 нм) |
| Неоднородность засветки | ± 3% |