Установка фотолитографии серии GHS-401-A
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 4” (Ø100мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125мм) |
| Точность совмещения | ±1 мкм |
| Разрешение | 1.5 мкм (при вакуумном контакте) |