Установка фотолитографии серии GHS-401-B
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Источником засветки является светодиодная лампа УФ диапазона.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 4” (Ø100мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125мм) |
| Регулируемый зазор между подложкой и фотошаблоном | 0~50мкм |
| Точность совмещения | ±1 мкм |
| Источник засветки | УФ светодиодная лампа |
| Разрешение | 1.5 мкм (при позитивном фоторезисте и вакуумном контакте) |