Установки двухсторонней фотолитографии серии BHS-402
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в производстве оптоэлектронных приборов, силовой электроники, сенсоров, гибридных интегральных схем, СВЧ устройств, МЭМС и в других применениях.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 4” (Ø100мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125мм) |
| Точность совмещения | ±3 мкм |
| Разрешение | 3 мкм (при позитивном фоторезисте)5 мкм (при негативном фоторезисте) |