Установки фотолитографии серии GHS-501
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 5” (Ø125мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 6” (150x 150мм) |
| Регулируемый зазор между подложкой и фотошаблоном | 0~50мкм |
| Точность совмещения | ±1 мкм |
| Разрешение | 1.5 мкм (при позитивном фоторезисте и вакуумном контакте) |